リソグラフィ装置、及びlcdにおいて繰返しパターンを使用してデータ経路数を低減するデバイス製造方法

Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated pattern in lcd to reduce datapath volume

Abstract

【課題】パターン発生器へのデータ経路において必要とされるパターン・データを低減することによって、マスクのないリソグラフィ・システムの性能を向上させるシステム及び方法を提供すること。 【解決手段】ビームにパターンを割り当てるように構成された個別に制御可能な素子アレイをプログラミングする方法及び装置である。例えば、この方法は、リソグラフィ装置においての使用に適し得る。この方法は、第1のパターンを表す第1のデータを生成する段階と、第2のパターンを表す第2のデータを生成する段階と、第1のデータを第1のバッファに書き込む段階と、第1のバッファから第1のデータを読み取って、第1のパターンを表示するために個別に制御可能な素子アレイをプログラミングし、並行して第2のデータを第2のバッファに書き込む段階とを含む。 【選択図】図5
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system and a method for enhancing the performance of a lithographic system free from a mask by reducing pattern data required in datapath to a pattern generator. SOLUTION: A method and device for programming an array of individually controllable elements is configured to impart a beam with a pattern. For example, the method can be suitable for use in a lithographic apparatus. The method comprises generating first data representing a first pattern, generating second data representing a second pattern, writing the first data to a first buffer, and reading the first data from the first buffer to program the array of individually controllable elements to display the first pattern, while writing the second data to a second buffer in parallel. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

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